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離線法生產(chǎn)Low-E玻璃,目前***上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)。所謂真空磁控濺射鍍膜,是在10-1帕數(shù)量級的真空環(huán)境中,通入適量的工藝氣體(惰性氣體Ar或反應氣體O2、N2),并保持真空度穩(wěn)定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極,并在與陰極垂直的水平方向置入磁場從而構(gòu)成磁控靶。以磁控靶為陰極,加上直流或交流電源,在高電壓的作用下,工藝氣體發(fā)生電離,形成等離子體。其中,電子在電場和磁場的共同作用下,進行高速螺旋運動,碰撞氣體分子,山東泰安Low-E玻璃廠家產(chǎn)生更多的正離子和電子;正離子在電場的作用下,達到***的能量后撞擊陰極靶材,被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。
膜層中主要功能膜層一般為銀(Ag)膜,其它膜層為輔助膜,起加強連接、保護主膜等作用。依據(jù)Ag膜的不同又可細分為單Ag,雙Ag及單Ag改進型等幾種不同產(chǎn)品大類,Low-E玻璃有豐富多彩的顏色供選用。